
长鑫存储
蚀刻工艺研发工程师-TD Etch Process Engineer(J18439)
蚀刻工艺研发工程师-TD Etch Process Engineer(J18439)
发布于 大约 7 小时前普通员工/个人贡献者
合肥市
中级经验
全职员工
仅现场办公
学历未注明
研究与开发 (研发)
Doe
Sadp
Saqp
半导体制造
工艺优化
良率提升
蚀刻工艺
Lele
等离子刻蚀
AI 估算 · 15k–30k
半导体研发工程师,合肥地区,需要较深经验,薪资具有竞争力,但相比互联网偏低,月薪1.5-3万合理。
职位详情
关于这个职位
该职位是长鑫存储的蚀刻工艺研发工程师,主要负责蚀刻工艺的技术突破与创新,优化工艺流程以提升良率和质量,并参与制定技术标准
你将使用高深宽比刻蚀机台,开发SADP/SAQP/LELE等先进工艺,解决生产中的难点问题,同时培养青年技术人才
适合有半导体刻蚀经验、喜欢技术攻关的工程师
最低要求
熟悉目前主流的高深宽比刻蚀机台
开发和改进高深宽比刻蚀相关工艺配方、SADP/SAQP/LELE (pitch微缩工程)和复杂结构工艺,以满足工艺结构要求
提出制程改善计划方案推动进程达成部门目标
设计和管理DOE实验,分析,提取,报告和总结,以优化关键流程并确定后续行动
对技术与机台提供专业判断以改善产品效能与质量,优化提升机台工艺能力
工作职责
技术突破与创新:负责蚀刻工艺的技术研发,实现重大技术突破或创新,助力研发目标实现,填补公司在技术相关领域的空白
工艺优化与良率提升:通过优化蚀刻工艺流程,提升产品良率和质量,解决生产运营中的重点、难点问题
技术标准制定:参与制定蚀刻专业技术领域的流程制度、技术标准和规范,确保技术实践的一致性
知识传承与人才培养:建立最佳实践方法(BKM),参与青年技术人才的培养和知识经验分享
AI 洞察
优缺点分析
优点
- 半导体行业是国家重点扶持领域,长鑫存储作为DRAM领军企业,平台稳定且技术前沿
- 负责核心蚀刻工艺,技术含金量高,能积累宝贵的先进制程经验
- 参与技术标准制定和人才培养,职业发展空间大
- 半导体工艺研发工作强度较大,可能需要加班和轮班
- 合肥地区相比一线城市,薪资和配套资源有一定差距
- 适合有半导体刻蚀经验、喜欢技术攻坚、愿意在合肥长期发展的工程师
缺点 / 挑战
- 技术难度高,需要持续学习新工艺和机台知识,压力较大
角色解读
- 在半导体制造领域深耕,可成为蚀刻工艺专家或技术负责人
- 横向拓展至其他半导体工艺模块(如薄膜、光刻),或转向整合工艺工程师
- 纵向晋升为技术经理或研发总监,带领团队攻克技术难题
- 负责蚀刻工艺的技术研发,实现关键工艺突破,如高深宽比刻蚀和pitch微缩工程
- 优化蚀刻工艺流程,通过DOE实验提升产品良率和质量,解决生产中的难点问题
- 参与制定技术标准和规范,建立最佳实践方法,培养青年技术人才
- 熟练掌握主流高深宽比刻蚀机台的操作和工艺配方开发
- 熟悉SADP/SAQP/LELE等先进图形化工艺,能独立设计和管理DOE实验
- 具备较强的数据分析和问题解决能力,能够提出制程改善方案
申请策略
- 提前了解长鑫存储的技术路线和产品,面试时展现对DRAM制造的理解
- 准备1-2个完整的工艺改善案例,详细说明思路和结果
- 突出高深宽比刻蚀机台操作经验,列举具体工艺配方开发案例
- 强调SADP/SAQP等先进图形化工艺的成功项目,用数据说明良率提升
- 展示DOE实验设计和数据分析能力,以及制程改善的量化成果
- 补充学习半导体物理和等离子体刻蚀原理,加深理论理解
- 熟悉半导体工艺模拟软件(如COMSOL)或数据分析工具(如JMP)
面试指南
- 采用STAR法则:情境-任务-行动-结果,清晰展示技术细节和贡献
- 结合工艺原理和实际数据,展现逻辑分析和问题解决能力
- 强调团队协作和知识传承,体现培养他人的意识
- 请详细描述你主导的一个高深宽比刻蚀工艺开发项目
- 在SADP工艺中,如何控制关键尺寸均匀性?
- 当蚀刻速率不达标时,你会如何排查和优化?
- 你如何设计DOE实验来优化某个工艺参数?
- 谈谈你对DRAM制造中蚀刻挑战的理解
职位点评
71
综合评分
半导体研发岗,技术前沿,发展空间大,但WLB一般。
从薪资福利、成长空间、工作节奏和岗位方向综合评估,方便横向比较。
更适合这类人
适合看重技术成长和行业前景、对工作强度有一定容忍度的求职者。
表现最好
成长发展
相对薄弱
工作生活
薪资福利70
成长发展85
工作生活50
使命价值75
薪资福利
70中等
薪资在合肥地区属中上水平,但相比一线城市及互联网行业偏低,福利可能包括五险一金等常规项,整体补偿性一般。
薪资信号未披露(AI估算:15K-30K/月)
成长发展
85较高
该职位技术前沿,涉及先进蚀刻工艺,有明确的技术创新和知识传承要求,成长空间大,发展性动机满足较好。
技术前沿前沿/新兴技术
技术栈高深宽比刻蚀、SADP、SAQP、LELE、DOE、等离子刻蚀
成长机会知识传承、人才培养、最佳实践方法
业务类型ambiguous
工作生活
50较低
现场办公,半导体制造环境通常要求倒班和加班,办公地点可能位于合肥郊区,WLB一般。
工作模式仅现场办公
办公地点科技园/产业园
加班情况未提及(无法判断)
使命价值
75中等
半导体行业是战略产业,长鑫存储致力于国产DRAM突破,具有较强使命感,但具体岗位的社会影响间接体现。
行业发展高速增长赛道
社会影响正向社会影响力较高
创新程度积极采用新技术
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