长电科技
光刻工程师(J11318)
光刻工程师(J11318)
发布于 9 天前普通员工/个人贡献者
全职员工仅现场办公工艺工程
工艺工程
Cdsem
Mems
Overlay量测
光刻工艺
半导体制造
工艺优化
量产化
值不值得投
46综合评分
综合评分 46
滁州 MEMS 光刻工艺岗，设备与量测技能门槛清晰，驻厂产线性质明显。
从薪资福利、成长发展、工作生活和使命价值四个维度综合评估，方便横向比较。
薪资怎么样
1.1万
比工艺工程中位数低
发布情况
正常在招 · 9 天前发布
公司情况
这家公司招聘很活跃
约 190 个在招 · 其中工艺工程 16 个
市场机会
选择不多
滁州 · 工艺工程 · 5 个在招
职位详情
关于这个职位
长电科技在滁州招聘光刻工程师，负责 MEMS 产品光刻工艺的开发、优化与异常解决，并配合推进量产化
要求本科以上学历、2 年以上光刻工艺经验，熟悉 ACT 涂胶显影设备与 NIKON 光刻机及 CDSEM、Overlay 等量测设备，适合有半导体光刻工艺背景的工程师
最低要求
本科以上学历，2年以上相关光刻工艺经验
了解 ACT 涂胶显影设备和 NIKON 光刻机的程序设定
熟练掌握 CDSEM、Overlay 等量测设备的原理及操作
工作职责
设计实验解决光刻工艺异常问题，优化光刻工艺流程
负责 MEMS 产品的产品光刻工艺开发优化改善
配合其它技术部门进行 MEMS 产品的量产化推进
优先资格
硕士学历优先
AI 洞察
优缺点分析
优点
- MEMS 光刻工艺属于细分稀缺方向，经验壁垒高
- 岗位覆盖异常解决、工艺开发到量产化推进的完整链路
- 半导体封测行业景气度延续，工艺人才需求稳定
- 洁净室驻线工作，异常处理常需倒班或随时响应
- 滁州当地半导体人才池有限，招聘与协作资源相对一线少
- 适合有光刻工艺实操经验、愿意驻厂深耕 MEMS 制造的半导体工艺工程师
缺点 / 挑战
- 工艺窗口精细，实验迭代周期内压力较大
角色解读
- 可成长为光刻工艺负责人或工艺部门主管
- 横向可拓展至 MEMS/半导体其它工艺模块或工艺整合方向
- 深耕微纳加工技术，也可向研发或设备厂商工艺专家转型
- 设计实验排查并解决光刻工艺异常，持续优化光刻工艺流程
- 负责 MEMS 产品光刻工艺的开发、优化与改善
- 与其他技术部门协作，推动 MEMS 产品量产化落地
- 2 年以上光刻工艺经验，具备实验设计与异常分析能力
- 了解 ACT 涂胶显影设备与 NIKON 光刻机的程序设定
- 熟练掌握 CDSEM、Overlay 等量测设备的原理与操作
申请策略
- 面试前了解 MEMS 器件结构与工艺难点，体现细分理解
- 强调自己驻产线解决异常的实战经历与响应意识
- 突出 2 年以上光刻工艺经验及具体工艺节点/产品类型
- 列明使用过的设备：NIKON 光刻机、ACT 涂胶显影、CDSEM、Overlay
- 量化工艺优化成果：良率提升、异常率下降等数据
- 展示实验设计（DOE）与跨部门量产推进的案例
- 复习光刻关键参数（线宽、套刻、CD 均匀性）的调控方法
- 补充 MEMS 工艺链基础知识，理解光刻在整体流程中的位置
面试指南
- 异常处理用现象-定位-对策-验证的结构，附量化结果
- 设备类问题结合自己实际操作过的机台回答
- 协作类问题突出工艺整合视角与沟通推动方式
- 描述一次你解决光刻工艺异常的完整过程与结果
- NIKON 光刻机程序设定的关键参数有哪些？
- CDSEM 与 Overlay 量测数据如何用于工艺调控？
- 你如何设计实验（DOE）优化光刻工艺窗口？
- 量产化推进中你如何与其他部门协作？
职位点评
薪资福利50
成长发展65
工作生活40
使命价值50
薪资福利
50较低
JD 未披露薪资与福利信息，滁州制造业工艺岗薪资水平中等，低于一线同等岗位。
薪资信号未披露（AI估算：8.0千–1.3万/月）
成长发展
65中等
MEMS 光刻工艺开发与量产化推进职责能积累稀缺的细分工艺经验，但 JD 未提及培训与晋升机制。
技术前沿主流现代技术
技术栈光刻工艺、MEMS、NIKON光刻机、CDSEM、Overlay
业务类型profit_center
工作生活
40较低
工艺岗需驻洁净产线并处理异常，节奏受生产计划影响，JD 未提及办公模式与加班信息。
工作模式未明确
办公地点工厂/生产基地
加班情况未提及（无法判断）
使命价值
50较低
MEMS 器件应用面广（传感等），制造环节有一定产业价值，但 JD 未提及使命导向内容。
行业发展稳定成熟行业
社会影响中性/一般
创新程度积极采用新技术
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