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卓胜微
光刻工艺工程师

光刻工艺工程师

发布于 大约 14 小时前

普通员工/个人贡献者

无锡市
中级经验
全职员工
仅现场办公
学历未注明
研究与开发 (研发)
Asml
Cdsem
Doe
Hbt
Phemt
Saw
Tel
光刻工艺
光刻胶

AI 估算 · 15k–25k

4-6年光刻工艺工程师,半导体行业,无锡地区,月薪约1.5-2.5万

职位详情

关于这个职位

该职位主要负责光刻工艺的研发与优化,涉及光刻胶选型、设备 recipe 编辑以及新工艺的验证与导入

你将参与射频芯片(SAW、HBT、PHEMT 等)的开发,确保 Photo 工艺的稳定性和良率提升

最低要求

良好的逻辑思维和沟通协调能力、学习能力、抗压能力

能熟练应用 DOE 手段进行工艺条件探索井要求做到工艺参数标准化
能及时处理 Photo 工艺实发性问题,并写总结报告
具有识别并解决工作领域内出现的常见问题,提出合适的解决方案
半导体基本 FAB 运行基本技能和常识,具有良好的思想素养和道德品质
具有 4~6 年的 Photo 工艺工作经验,熟悉 Photo 工艺相关理论知识

工作职责

工作职责:

岗位定位为Photo TD PE,根据研发项目节点完成Photo专项验证,及时处理研发LOT,输出验证数据与报告
熟悉i-line与KrF光刻胶型号,根据lift-off、刻蚀等不同的工艺要求进行光刻胶选型,优化光刻胶胶厚、CD、Profile及套刻精度
熟悉ASML光刻机、TEL涂胶&显影机、CDSEM、Overlay量测等机台Recipe缤辑与优化
熟悉芯片工艺开发流程,跟踪新技术、新产品流片全流程,Photo相关异常识别与解决
熟悉产品作业及量测Handbook,每层LayerPhoto工艺参数制定与优化
寸及以上FAB工作经验,具有SAW、HBT、PHEMT等射频芯片工艺开发经验者为佳

AI 洞察

优缺点分析

优点

  • 接触ASML等尖端光刻设备,技术积累深厚,行业认可度高
  • 参与射频芯片等热门产品开发,行业前景广阔
  • 公司为上市公司,平台稳定,项目资源丰富
  • FAB环境要求高,需适应无尘室工作和可能的倒班
  • 工艺问题突发性强,需要较强的抗压能力和快速解决问题的能力
  • 技术更新快,需持续学习新设备和新材料
  • 适合对半导体光刻工艺有热情、具备扎实实验设计和问题解决能力、愿意在FAB环境中深入钻研的技术型人才

缺点 / 挑战

暂无明显挑战项

角色解读

  • 从Photo TD PE发展为光刻工艺专家,深入掌握先进光刻技术
  • 可向工艺整合(PIE)或研发部门晋升,负责更全面的芯片工艺开发
  • 未来有望成为技术负责人或管理岗,带领团队攻克工艺难题
  • 负责光刻工艺的专项验证,包括光刻胶选型、胶厚、CD、Profile和套刻精度的优化
  • 操作并优化ASML光刻机、TEL涂胶显影机、CDSEM等设备的Recipe,确保工艺稳定
  • 跟踪新产品流片全流程,及时识别和解决Photo相关的异常问题,输出验证报告
  • 熟练掌握i-line和KrF光刻胶特性及应用,能根据工艺要求选型
  • 精通ASML光刻机、TEL涂胶显影等设备的操作和Recipe调试
  • 掌握DOE实验设计方法,能系统性地探索和标准化工艺参数
  • 具备6寸及以上FAB工作经验,了解射频芯片(SAW/PHEMT等)工艺优先

申请策略

  • 关注卓胜微在射频芯片领域的业务方向,面试时展现对产品应用的理解
  • 准备1-2个成功解决Photo异常或工艺优化的具体案例
  • 突出光刻工艺经验,尤其是i-line/KrF光刻胶选型和设备操作经历
  • 详细描述DOE应用案例和工艺参数标准化成果
  • 强调射频芯片(SAW/HBT等)相关项目经验,以及与研发团队的协作成果
  • 补充学习CDSEM和Overlay量测的Recipe优化技巧
  • 了解先进光刻技术(如ArF、EUV)的基础知识,提升竞争力

面试指南

  • 针对工艺优化问题:首先定义问题(现象、数据),然后分析可能原因(设备、材料、参数),接着设计DOE实验验证,最后标准化参数并记录
  • 针对异常处理:遵循FAB标准作业程序,先隔离异常批次,再通过鱼骨图或FMEA分析根本原因,实施纠正措施并验证效果
  • 针对技术理解:结合具体设备型号和材料特性,从物理/化学机理角度解释,并举例说明实际应用中的权衡
  • 请描述一次你如何通过DOE优化光刻胶胶厚和CD的案例
  • 当LOT出现光刻胶残留或套刻精度超标时,你的排查步骤是什么?
  • 你如何理解Profile对lift-off工艺的影响?
  • 谈谈你对ASML光刻机不同型号(如i-line vs KrF)的熟悉程度和技术差异
  • 在研发项目中,如何平衡光刻参数与后续刻蚀/沉积工艺的匹配?

职位点评

65
综合评分

半导体光刻工艺岗位,技术成熟,行业前景好,但工作强度可能较高。

从薪资福利、成长空间、工作节奏和岗位方向综合评估,方便横向比较。

更适合这类人
适合追求技术发展和行业前景,能接受FAB工作环境的求职者。
表现最好
使命价值
相对薄弱
工作生活
薪资福利60
成长发展75
工作生活50
使命价值80

薪资福利

60中等

薪资未明显披露,但半导体行业中等水平,上市企业福利有保障,但未在JD中明确。

薪资信号未披露(AI估算:15K-25K/月)

成长发展

75中等

技术成熟但有一定前沿性(射频芯片),成长路径清晰,但JD未提及培训或晋升。

技术前沿主流现代技术
技术栈光刻工艺、ASML、TEL、DOE、SAW、HBT
业务类型profit_center

工作生活

50较低

仅现场办公,FAB工作环境,未提及WLB,可能面临加班。

工作模式仅现场办公
办公地点科技园/产业园
加班情况未提及(无法判断)

使命价值

80较高

半导体行业高速增长,射频芯片市场前景好,但JD未强调社会使命。

行业发展高速增长赛道
社会影响中性/一般
创新程度积极采用新技术
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