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多维集成蚀刻工艺研发工程师/专家 -Multidimensional Integration ETCH Process Engineer/Expert(J14387)

多维集成蚀刻工艺研发工程师/专家 -Multidimensional Integration ETCH Process Engineer/Expert(J14387)

发布于 大约 14 小时前

普通员工/个人贡献者

合肥市
高级经验
全职员工
仅现场办公
硕士
工艺工程
Doe
Jmp
Spc
Tsv
先进封装
半导体制造
工艺研发
良率提升
蚀刻工艺

AI 估算 · 25k–45k

半导体行业资深工艺工程师,合肥地区薪资有竞争力,硕士5年经验,市场水平中等偏上。

职位详情

关于这个职位

该职位负责半导体蚀刻工艺的研发与优化,包括工艺异常诊断、新技术导入、良率提升等核心工作

需要硕士及以上学历、5年以上蚀刻工艺经验,熟悉主流蚀刻设备
适合有半导体制造背景、愿意深入技术攻关的资深工程师

最低要求

教育背景与专业知识:硕士及以上学历,物理、化学、化工、微电子科学与工程或材料科学与工程等相关理工类专业

行业与专业经验:5年及以上半导体制造领域蚀刻工艺研发或量产支持工作经验,熟悉主流蚀刻设备(如Lam、TEL、AMAT)及工艺流程,有28nm及以下节点或Fan-Out、TSV等蚀刻经验者优先
专业技能与资格:熟悉半导体器件原理、工艺集成逻辑及可靠性评估方法,具备独立开展工艺实验设计与失效分析能力
项目/任务成果:主导或深度参与过至少3项蚀刻工艺开发或优化项目,并达成良率、性能或成本目标
其他要求:具备良好的跨职能沟通协调能力、团队协作意识及项目推进能力,具备英文科技文献阅读与技术文档撰写能力

工作职责

工艺异常诊断与优化:深入理解蚀刻工艺原理,独立识别并解决产线工艺异常问题,持续开展工艺稳定性维护与优化,具备后段制程或封装领域蚀刻工艺经验者优先

新技术导入与规范建立:主导新技术导入全流程,设定工艺参数并编制更新作业指导书(SOP),协同生产部门保障量产阶段工艺可控性与良率目标达成
关键课题攻关与良率提升:基于工艺整合需求,牵头攻关关键工艺课题,拓展工艺窗口,提升产品电学性能与制造良率
新材料/新设备评估导入:开展新材料、新设备及新功能模块的技术评估与导入验证,推动工艺成本优化与技术竞争力提升
数据驱动工艺决策:运用SPC、FMEA、DOE等质量管理工具及JMP、Python或MATLAB等数据分析软件,支撑数据驱动的工艺分析与改善

AI 洞察

优缺点分析

优点

  • 半导体行业是国家重点支持的赛道,长鑫存储作为存储器领军企业,平台稳定,技术积累深厚,能为个人提供长期发展的良好环境
  • 蚀刻工艺是半导体制造的核心环节,技术含金量高,掌握这门手艺后职业价值稳固,且随着技术迭代不断增值
  • 岗位涉及先进封装(TSV、Fan-Out)等技术,属于行业前沿方向,有较多学习新技术和参与国际竞争的机会
  • 技术更新快,需要持续学习和掌握新设备、新工艺,对个人学习能力和抗压能力是不小的考验
  • 适合有多年半导体制程经验,热爱技术攻关,愿意在半导体制造领域深耕的工程师

缺点 / 挑战

  • 半导体制造对工艺稳定性要求极高,工作压力较大,可能需要应对产线突发异常和严格的良率指标,加班和倒班情况可能时有发生
  • 岗位要求较高,需要扎实的理论基础和多年的经验积累,新入职者需要快速适应复杂的工艺环境和跨部门协作节奏

角色解读

  • 在专业领域内可向蚀刻工艺专家或技术带头人发展,主导更复杂的技术难题,成为公司核心技术骨干
  • 可横向拓展至工艺整合、技术研发管理或产品工程方向,逐步转型为技术经理或技术总监,负责更大范围的研发团队和项目
  • 随着半导体行业对先进制程和先进封装的需求增长,该岗位经验可为你打开更广阔的职业空间,如跳槽至其他头部半导体公司或设备厂商
  • 负责半导体蚀刻工艺的日常监控与异常诊断,深入分析工艺原理,快速定位并解决产线突发问题,确保工艺稳定
  • 主导新工艺、新技术的导入,制定工艺参数并编写SOP,与生产、设备等部门协作,确保新工艺在量产中顺利落地并满足良率目标
  • 围绕工艺整合需求,开展关键课题攻关,如拓展工艺窗口、优化刻蚀形貌,提升芯片电学性能和良率
  • 评估和导入新材料、新设备、新功能模块,进行工艺验证和成本优化,推动整体技术竞争力持续提升
  • 熟练掌握蚀刻工艺原理和主流设备操作,如Lam、TEL、AMAT等,了解不同机台的特性和调机方法
  • 熟悉半导体制造全流程和器件物理,能结合工艺整合逻辑分析问题,具备独立设计实验(DOE)和失效分析的能力
  • 擅长使用SPC、FMEA等质量管理工具,并具备JMP、Python或MATLAB等数据分析能力,能通过数据驱动工艺优化
  • 具备良好的英文文献阅读和技术文档编写能力,能跟踪国际先进技术动态并输出高质量报告

申请策略

  • 关注长鑫存储的技术路线和发展动态,在面试中表现出对存储器工艺和先进封装的浓厚兴趣
  • 申请时准备好英文技术摘要,因为岗位要求英文文献阅读,面试可能包含英文技术问答或文献讲解环节
  • 重点突出蚀刻工艺相关的项目经历,特别是主导或参与过3项以上的工艺开发优化项目,并量化成果,如良率提升、成本降低等具体数据
  • 强调熟悉Lam/TEL/AMAT等主流设备,并具体写清对哪类机台、哪些工艺(如介质刻蚀、硅刻蚀、TSV等)有深入掌握
  • 展示质量管理工具和数据分析能力,例如SPC控制图、DOE设计、JMP/Python分析案例,这些都是岗位的关键加分项
  • 如有先进封装(Fan-Out、TSV)或28nm及以下节点经验,务必在简历中明确,这是优先项
  • 若对先进封装工艺不熟悉,可提前了解TSV、Fan-Out等工艺流程,阅读相关文献,补充这方面的知识
  • 强化数据分析能力,熟练使用JMP或Python进行工艺数据挖掘和可视化,这些是数据驱动决策的必备工具

面试指南

  • 回答技术问题时,建议采用STAR法则(情境-任务-行动-结果),逻辑清晰地描述背景、你的具体做法和成效
  • 面对工艺优化类问题,可以从机理分析、关键参数识别、DOE设计、数据验证、标准化固化等步骤展开,展示系统性思维
  • 对于案例分析题,可先简要总结问题现象,再说明你的分析思路(如假设-验证),最后给出结论,突出你的思考深度
  • 请详细描述一次你主导的蚀刻工艺异常排查过程,你是如何定位并解决问题的?
  • 谈一谈你对TSV或Fan-Out工艺中蚀刻挑战的理解,以及如何优化工艺窗口?
  • 你用过哪些DOE方法?结合一个实际案例说明如何设计实验并分析结果
  • 如何理解SPC在工艺控制中的作用?当CPK不达标时你会采取什么步骤?
  • 请用英文简要介绍你过去的一个蚀刻工艺项目

职位点评

70
综合评分

技术前沿、成长性好,但工作强度可能较大,适合热爱半导体工艺的资深工程师。

从薪资福利、成长空间、工作节奏和岗位方向综合评估,方便横向比较。

更适合这类人
该职位最适合追求技术深度和职业成长、愿意投身半导体前沿工艺研发的求职者,对生活平衡要求较高者需慎重考虑。
表现最好
成长发展
相对薄弱
工作生活
薪资福利70
成长发展85
工作生活45
使命价值75

薪资福利

70中等

职位薪资未在JD中披露,但半导体行业资深工程师薪资水平通常较高,且公司为行业头部,激励体系相对完善,整体补偿性较好。

薪资信号未披露(AI估算:25K-45K/月)

成长发展

85较高

岗位涉及先进制程和先进封装工艺,技术前沿性强,能深度参与核心技术攻关,且行业成长空间大,发展性动机满足度高。

技术前沿前沿/新兴技术
技术栈蚀刻工艺、半导体制造、TSV、Fan-Out、Lam、TEL、AMAT、SPC、DOE
业务类型ambiguous

工作生活

45较低

职位要求现场办公,未提及弹性工作安排,半导体产线通常工作强度较大,生活平衡度一般。

工作模式仅现场办公
办公地点未明确
加班情况未提及(无法判断)

使命价值

75中等

半导体行业属于国家战略性产业,公司致力于存储芯片国产化,岗位对推动自主可控有积极意义,使命感较强。

行业发展高速增长赛道
社会影响正向社会影响力较高
创新程度积极采用新技术
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