
长鑫存储
蚀刻工艺研发工程师/专家-TD Etch Process Engineer/Expert(J17108)
蚀刻工艺研发工程师/专家-TD Etch Process Engineer/Expert(J17108)
发布于 大约 3 小时前普通员工/个人贡献者
合肥市
专家级经验
全职员工
仅现场办公
硕士
工艺工程
Doe
Dry Etch
Saqp
化学
半导体
工艺研发
材料
物理
高深宽比刻蚀
AI 估算 · 18k–35k
基于半导体研发岗位的薪酬水平,技能难度高,市场需求大,薪资具有竞争力。
职位详情
关于这个职位
该职位是长鑫存储的蚀刻工艺研发工程师/专家,主要负责高深宽比刻蚀工艺的配方开发与优化,通过设计和管理DOE实验改善工艺窗口
需要具备丰富的Dry Etch经验和半导体工艺知识,属于技术研发核心岗位,对提升芯片制造良率和性能至关重要
最低要求
硕士及以上学历,物理、化学、材料、微电子或其他相关理工科领域
年以上半导体制造Dry ETCH工艺相关经验 掌握各Dry ETCH工艺特点,熟悉及深入了解蚀刻相关半导体制程与设备相关知识,具有跨部门多方面知识为佳
良好的沟通协调技巧,较佳的表达力和执行力
具有处理复杂问题能力及有效运用资源提出解决方案
工作职责
熟悉目前主流的高深宽比刻蚀机台
开发和改进高深宽比CAP EH(AR:45-55) 相关工艺配方,以满足工艺结构要求
CAP EH patterning(SAQP) 工艺优化从而改善工艺窗口
设计和管理DOE实验,分析,提取,报告和总结,以优化关键流程并确定后续行动
AI 洞察
优缺点分析
优点
- 加入国内领先存储芯片公司,参与先进工艺研发,技术积累价值高
- 核心岗位,对个人技术能力和行业认知有极大提升
- 半导体行业受国家支持,前景稳定且薪资有竞争力
- 工作强度较大,需应对复杂工艺问题和紧迫的研发节点
- 技术门槛高,需要持续学习新兴工艺和设备知识
- 合肥地区半导体人才竞争日趋激烈,需保持技术领先
- 适合在Dry Etch领域有扎实经验,愿意在半导体工艺研发一线深耕的工程师
缺点 / 挑战
暂无明显挑战项
角色解读
- 从工艺工程师向技术专家或技术主管发展,主导关键工艺模块
- 可横向拓展至工艺整合、设备工程或良率提升领域
- 在半导体行业国产替代大趋势下,职业发展空间广阔
- 负责高深宽比刻蚀工艺的配方开发与优化,解决工艺中的技术难题
- 设计并管理DOE实验,通过数据分析改善工艺窗口和稳定性
- 参与SAQP patterning等先进工艺的优化,提升整体工艺性能
- 精通Dry Etch工艺原理及主流机台操作,熟悉不同刻蚀特性
- 具备DOE设计和数据分析能力,能有效利用统计工具优化工艺
- 良好的跨部门沟通和协作能力,推动工艺改进落地
申请策略
- 提前了解长鑫存储的技术路线和产品方向,在面试中展现匹配度
- 准备一个完整的工艺优化案例,体现系统思维和数据驱动能力
- 突出高深宽比刻蚀、CAP EH、SAQP等具体项目经验
- 强调DOE设计、数据分析及问题解决的量化成果
- 展示跨部门协调和沟通能力,如与设备、整合团队的协作
- 加深半导体器件物理和刻蚀机理的理解
- 学习统计过程控制(SPC)和先进工艺控制(APC)知识
- 关注前沿刻蚀技术,如原子层刻蚀(ALE)等
面试指南
- 使用STAR方法:情境、任务、行动、结果,突出个人贡献
- 强调逻辑性和数据支撑,展示系统性思考
- 结合理论知识和实际经验,体现对工艺本质的理解
- 请解释高深宽比刻蚀中的负载效应及其影响
- 如何通过DOE优化CAP EH工艺窗口?请举例说明
- 描述一次你成功解决复杂工艺问题的经历
- 谈谈你对SAQP工艺挑战和解决方案的理解
- 如何选择刻蚀气体组合和参数?
职位点评
68
综合评分
国内半导体龙头,前沿技术研发,薪资可观但工作强度大。
从薪资福利、成长空间、工作节奏和岗位方向综合评估,方便横向比较。
更适合这类人
适合重视技术成长和职业发展,能接受现场办公和一定工作强度的求职者。
表现最好
成长发展
相对薄弱
工作生活
薪资福利65
成长发展90
工作生活40
使命价值70
薪资福利
65中等
薪资未明确披露,但根据岗位级别和行业水平,预计具有竞争力;福利信息未在JD中提及。
薪资信号未披露(AI估算:18K-35K/月)
成长发展
90较高
岗位涉及前沿高深宽比刻蚀技术,技术成长空间大;但JD未明确提及晋升通道或培训机制。
技术前沿前沿/新兴技术
技术栈Dry Etch、高深宽比、SAQP、DOE
业务类型profit_center
工作生活
40较低
仅现场办公,未提及弹性工作或远程可能;半导体行业通常工作强度较大。
工作模式仅现场办公
办公地点科技园/产业园
加班情况未提及(无法判断)
使命价值
70中等
半导体存储行业属高速增长赛道,国产替代意义重大,但JD未体现社会使命或创新导向。
行业发展高速增长赛道
社会影响中性/一般
创新程度积极采用新技术
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