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长鑫存储
蚀刻工艺研发专家-TD Etch Process Expert(J14082)

蚀刻工艺研发专家-TD Etch Process Expert(J14082)

发布于 大约 15 小时前

普通员工/个人贡献者

北京市
高级经验
全职员工
仅现场办公
硕士
研究与开发 (研发)
12寸晶圆
Doe
Har
Jmp
Sadp
Spc
半导体
蚀刻工艺
设备导入

AI 估算 · 30k–50k

半导体蚀刻专家稀缺,6年经验+硕士,北京薪酬水平较高,市场竞争力强。

职位详情

关于这个职位

该职位负责半导体蚀刻工艺的研发与优化,主导DOE实验和SPC分析以提升工艺能力,并推动新设备的评估导入和技术转移

适合有6年以上12寸晶圆蚀刻经验、熟悉先进图形化技术(如HAR、SADP)的资深工程师,在国产存储芯片领军企业中深入技术积累

最低要求

教育背景与专业知识:硕士及以上学历,理工科背景

专业技能与资格:能使用JMP/Minitab等统计工具完成DOE设计与SPC分析,能独立完成刻蚀机台的工艺匹配与调试
行业与专业经验:具有6年以上12寸半导体蚀刻制程或研发工作经验
项目/任务成果:主导过至少一项新设备导入或工艺优化项目,并实现技术转移至量产线
其他要求:具有清晰的根因分析能力与跨部门协作意识,能在技术攻关中主动拉通资源并推动闭环

工作职责

工艺能力提升与异常闭环:主导现有蚀刻工艺的持续改进,通过DOE实验设计与SPC统计分析提升工艺能力指数,降低缺陷密度,对生产异常进行根因分析并推动问题闭环

新设备评估与导入:配合新工艺开发需求,主导新型刻蚀设备的评估与导入,参与设备选型、调试、工艺匹配及量产导入全过程
跨职能协同与技术转移:拉通研发、生产、设备、材料等多方资源,确保新技术顺利转移至量产线,支持新产品从研发到量产的全生命周期管理

优先资格

有蚀刻工艺研发经验者优先

有HAR、SADP、SAQP或SARP工艺经验者优先

AI 洞察

优缺点分析

优点

  • 身处半导体存储芯片国产化前沿,平台稳定且技术积累深厚
  • 接触先进蚀刻技术(HAR、SADP等),技能稀缺性高,市场价值大
  • 公司为国内DRAM领军企业,项目资源丰富,成长空间大
  • 半导体fab工作强度较大,可能需要应对紧急异常处理和加班

缺点 / 挑战

  • 工艺研发复杂度高,需持续学习新设备和新工艺,压力较大
  • 跨部门协调涉及多方利益,沟通成本较高
  • 适合有深厚半导体蚀刻背景、追求技术钻研、能够承受高强度工作压力的资深工程师

角色解读

  • 在技术深度上持续深耕,成为蚀刻工艺领域的技术专家或首席工程师
  • 向技术管理方向发展,担任工艺研发经理或技术负责人
  • 横向扩展至半导体工艺整合或设备工程领域,拓宽职业路径
  • 主导蚀刻工艺的优化与异常处理,通过DOE实验和SPC分析提升工艺稳定性和良率
  • 负责新刻蚀设备的评估、导入和工艺匹配,确保设备满足研发和量产需求
  • 协调研发、生产、设备等跨部门资源,推动新技术从研发向量产转移
  • 精通DOE和SPC统计分析方法,熟练使用JMP或Minitab等工具
  • 具备6年以上12寸半导体蚀刻工艺或研发经验,熟悉刻蚀机台调试
  • 掌握先进蚀刻技术如HAR、SADP、SAQP等优先
  • 优秀的根因分析和跨部门协作能力,能够主动推动问题闭环

申请策略

  • 提前研究长鑫存储的技术路线和DRAM产品,面试中展示对其工艺挑战的理解
  • 准备2-3个完整的项目案例,用STAR法则清晰阐述角色和贡献
  • 突出6年以上12寸蚀刻经验,用具体项目展示DOE/SPC应用成果
  • 强调主导的新设备导入或工艺优化项目,并说明技术转移至量产线的成效
  • 列出掌握的先进蚀刻技术(如HAR、SADP),体现技术深度
  • 补充学习原子层刻蚀等前沿技术,提升竞争力
  • 加强根因分析的系统性方法,如8D报告或鱼骨图
  • 了解半导体制造全流程,尤其是存储芯片工艺特点

面试指南

  • 技术问题采用原理+实践结合,先阐述理论知识,再引用实际数据和案例
  • 项目描述使用STAR法则:情境、任务、行动、结果,突出量化成果
  • 跨部门问题强调沟通策略和双赢思维,展示领导力
  • 请介绍你主导的一个蚀刻工艺优化项目,如何通过DOE改善工艺指标?
  • 新设备导入的流程是什么?你如何评估设备性能并完成工艺匹配?
  • 如何利用SPC监控蚀刻工艺稳定性?遇到CPK不足时如何分析?
  • 在跨部门协作中,你如何处理资源冲突或技术分歧?
  • 请解释HAR刻蚀的挑战和常见解决方案

职位点评

72
综合评分

半导体蚀刻研发专家,技术前沿薪酬优,但工作强度和WLB一般。

从薪资福利、成长空间、工作节奏和岗位方向综合评估,方便横向比较。

更适合这类人
适合重视技术深度和薪资回报、能接受高强度工作的资深蚀刻工程师。
表现最好
成长发展
相对薄弱
工作生活
薪资福利75
成长发展85
工作生活45
使命价值80

薪资福利

75中等

职位薪资水平在半导体行业具有竞争力,但具体薪资和福利未在JD中明确,薪酬吸引力中等偏上。

薪资信号未披露(AI估算:30K-50K/月)

成长发展

85较高

职位技术要求高,涉及先进蚀刻技术和统计工具,能够显著提升专业能力,但未明确提及晋升路径。

技术前沿主流现代技术
技术栈蚀刻工艺、DOE、SPC、JMP、Minitab、HAR、SADP、设备导入
业务类型ambiguous

工作生活

45较低

工作模式为仅现场办公,半导体fab通常工作强度大,JD未提及WLB相关信息,生活平衡可能较差。

工作模式仅现场办公
办公地点科技园/产业园
加班情况未提及(无法判断)

使命价值

80较高

半导体行业国产替代趋势带来社会价值,职位直接贡献存储芯片技术突破,使命感较强。

行业发展高速增长赛道
社会影响正向社会影响力较高
创新程度积极采用新技术
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