
长鑫存储
先进分辨率增强技术(RET/SMO/OPC)与设计工艺协同(DTCO)光刻工程师 / 技术专家(J19560)
先进分辨率增强技术(RET/SMO/OPC)与设计工艺协同(DTCO)光刻工程师 / 技术专家(J19560)
发布于 大约 1 小时前普通员工/个人贡献者
合肥市
高级经验
全职员工
仅现场办公
硕士
工艺工程
Dtco
Eda工具
Opc
Ret
Smo
专利撰写
仿真建模
半导体光刻
数据分析
AI 估算 · 25k–40k
半导体光刻前沿技术稀缺人才,合肥竞争力强,薪资高于平均水平。
职位详情
关于这个职位
作为长鑫存储的光刻技术专家,你将主导先进工艺节点下RET/SMO/OPC等分辨率增强技术的研究与开发,与设计和工艺团队协同解决成像极限挑战,推动DTCO方法落地
该职位涉及前沿计算光刻算法、EDA工具验证及专利产出,适合有半导体光刻经验、热爱技术攻关的资深工程师
最低要求
教育背景与专业知识:硕士及以上学历(相关专业博士优先),微电子、物理、光学、数学、计算机或相关理工科专业,具备扎实的半导体光刻原理与工艺流程知识
专业技能与资格:能使用至少一种主流光刻仿真或OPC/EDA工具,具备扎实的建模及数据分析能力
熟悉工艺窗口分析、光学邻近效应修正原理及设计工艺交互影响机制
行业与专业经验:3年以上半导体行业经验,具有OPC、计算光刻、工艺集成或器件设计相关领域的技术研发或深度项目经历,有RET/SMO/DTCO专项研究经验者优先
项目/任务成果:主导或核心参与过至少2个OPC、计算光刻或DTCO相关项目,完成从方案制定、仿真建模到结果验证的完整过程
能独立完成跨工艺模块的项目提案与专案研究
其他要求:具备出色的逻辑思维、创新探索精神和独立研究能力
拥有较强的跨团队沟通表达能力和技术协作精神
能流畅阅读英文技术文献并具备良好的英文技术写作能力
工作职责
前沿技术原理探索与方案预研:主导先进工艺研发中下一代RET/SMO光刻成像与设计工艺协同的前沿研究,聚焦于技术原理探索与方案预研,输出技术评估报告与可行性论证
RET/DTCO研发计划制定与流程建设:依据产品平台技术路线图,制定RET/DTCO新方法的研发计划,建立并优化仿真与建模流程,保障前瞻性先进技术研究的整体进度
跨团队协同攻关:依据先进工艺节点的集成需求,与工艺整合及设计团队协作,针对成像极限、工艺窗口、设计规则与器件性能的协同挑战进行课题攻关,拓展解决方案的理论与技术边界
新算法与工具引入验证:引入并验证新的计算光刻算法、EDA工具功能及仿真方法论,输出验证报告,致力于提升研发效率并降低未来工艺开发成本与风险
数据分析与知识产权产出:深入分析仿真与实验数据,总结并汇报技术研究进展,撰写内部技术报告、学术论文并申请相关专利
优先资格
相关专业博士优先
有RET/SMO/DTCO专项研究经验者优先
AI 洞察
优缺点分析
优点
- 涉及RET/SMO/OPC/DTCO等尖端方向,专业壁垒强
- 有机会参与先进节点开发,与顶尖团队合作,积累稀缺经验
- 技术难度大,需要持续学习前沿知识
- 跨团队协作复杂,需要较强沟通能力
- 适合有深厚光刻/计算光刻背景,热爱技术攻关、渴望在半导体前沿领域深耕的工程师
缺点 / 挑战
- 身处半导体国产化前沿,技术挑战大,成长空间高
- 半导体行业工作节奏快,可能面临较大压力
角色解读
- 成为计算光刻领域的专家,主导先进节点技术方案
- 向技术管理方向发展,带领团队攻克工艺难题
- 积累专利与学术成果,提升行业影响力
- 主导先进RET/SMO/OPC等分辨率增强技术的原理探索与预研,输出技术评估报告
- 制定RET/DTCO研发计划,建立仿真建模流程,保障研发进度
- 与工艺整合和设计团队协同,解决成像极限、工艺窗口等挑战
- 引入验证新算法与EDA工具,深入数据分析并产出专利和论文
- 扎实的半导体光刻物理和工艺流程知识
- 熟练使用主流光刻仿真或OPC/EDA工具
- 具备建模、数据分析和英文技术文献阅读能力
- 跨团队沟通与技术协作能力
申请策略
- 了解长鑫存储的DRAM产品和工艺路线,面试时展示对存储器光刻挑战的理解
- 准备一个完整的项目案例,清楚描述方案、难点和结果
- 突出OPC/计算光刻项目的完整经历,强调主导角色和成果
- 展示仿真建模、数据分析的具体案例
- 列出掌握的EDA/光刻工具和专业技能
- 体现英文文献阅读和技术写作能力
- 补充DTCO相关知识,理解设计工艺交互
- 学习主流EDA工具和脚本语言(Python/Tcl)
面试指南
- STAR法则:情境、任务、行动、结果,强调个人贡献
- 技术问题:从物理原理出发,结合仿真和实验数据逻辑分析
- 展示跨团队协作经验,说明沟通和推进方法
- 请介绍你主导的一个OPC或计算光刻项目,你是如何解决工艺窗口问题的?
- 如何看待DTCO在设计工艺协同中的作用?
- 你在建模时如何处理复杂的光学邻近效应?
- 如何验证新EDA工具或算法的准确性?
- 如果工艺窗口不足,你会从哪些方面分析改进?
职位点评
70
综合评分
半导体前沿光刻技术岗,发展空间大,薪资市场水准,WLB未知。
从薪资福利、成长空间、工作节奏和岗位方向综合评估,方便横向比较。
更适合这类人
该职位最适合重视技术成长和行业意义、能接受现场办公和较快节奏的求职者。
表现最好
成长发展
相对薄弱
工作生活
薪资福利65
成长发展85
工作生活50
使命价值80
薪资福利
65中等
JD未披露具体薪资,但半导体光刻岗位稀缺,合肥地区薪酬竞争力较强。
薪资信号未披露(AI估算:25K-40K/月)
成长发展
85较高
职位聚焦前沿RET/DTCO技术,涉及大量仿真建模与创新,技能成长空间巨大。
技术前沿前沿/新兴技术
技术栈RET、SMO、OPC、DTCO、计算光刻、EDA、仿真建模
业务类型cost_center
工作生活
50较低
工作地点在合肥,仅现场办公,未提及弹性福利,半导体行业节奏较快。
工作模式仅现场办公
办公地点科技园/产业园
加班情况未提及(无法判断)
使命价值
80较高
半导体制造国产化战略意义重大,该职位直接推动先进节点技术自主可控。
行业发展高速增长赛道
社会影响正向社会影响力较高
创新程度积极采用新技术
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